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汉能技术

研发中心

北京研发中心

北京研发中心成立于2009年,其致力于开发和制造薄膜发电设备以及交付领先技术和低成本的整线生产线解决方案。中心在2009年通过了ISO 9001认证,并在2010年获得由北京市科技委员会颁发的「高新技术企业」称号。


中心主要产品包括PECVD,PVD和低压化学气相沉积(LPCVD)系统以及其它特定用途的真空设备。本中心的72片玻璃单室PECVD设备为世界上最大的单体PECVD系统,沉积面积达到57平方米。自建立以来,中心已向多家光伏厂商交付PECVD和PVD系统,累计年产能约为2GW。中心的设备主要用于硅锗、纳米晶硅和CIGS薄膜光伏的生产。


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